Machine à développer automatique à microprocesseur asservi à la largeur et longueur du film. Modèle compact adapté principalement aux laboratoires mobiles ou aux faibles volumes. Accepte des films de 6 à 36cm de large et 10cm minimum de longueur. Vitesse max d’avance du film 13cm/min
La conception des racks avec de faibles volumes protége la chimie de l'oxydation de l'air. Le lavage intermédiaire entre révélateur et fixateur limite l'entretien et l'usure des bains. Le microprocesseur gère la mesure de surface du film pour une régénération optimisée de la chimie, une régénération en mode veille, un cycle anti-cristallisation en mode veille et bien entendu, le temps de traitement, la vitesse d'avance, la sécheuse, la température des bains avec des échangeurs thermiques et la protection thermique.
Spécifications:Largeur max du film : 36cmLongueur min du film : 10cmVolume des bains : 2,3L chacun (Dev/Fixer/Wash)Température réglable de: 18-43°C ± 0,2°CTempérature de séchage : environ 50°CRégénération 0-800ml/m²Cycle de développement :(Dry to Dry): (cm/min) (sec)2,7min 38cm/min 30s4,5min 23cm/min 50s9,5min 11,5cm/min 99s13,6min 8cm/min 150sAlimentation: 230V, 50/60 Hz, 1,7kWAlimentation en eau: R3/4", max 18°C, 3-6 barDébit de rinçage : 1,5 – 2L/minDiamètre du tuyau d'évacuation : 32mmPlease sign in first.
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